美光暂停桃园Fab 11E新厂建设

据彭博报道，美光因台湾劳资争议迟迟未解，决定暂停桃园Fab 11E新厂兴建工程。

这起事件关键在于劳资双方对奖酬制度的分歧。

报道引述消息人士指出，美光在桃园的工程已几乎全面停摆。高管担忧不确定性日增，包括与当地工会的协议可能被推翻。知情人士说，美光已通知中国台湾官员及一家供应商，将暂停桃园厂的工程。

该工程原计划投资30亿至45亿美元，2028年投产。

产业界人士指出，由于美光桃园厂肩负先进DRAM前段制造，尤其Fab 11E规划导入极紫外光（EUV）光刻设备，并预留未来High-NA EUV升级空间，生产的晶圆再送至台中先进封测厂封装成高带宽内存(HBM)和DRAM，再交付给组装厂，这一连串的扩建，牵动美光在台中甚至台南布局，突然喊停将打乱美光在中国台湾甚至全球布局。

其他知情人士表示，目前工地仍有少量工程持续进行，以确保厂区安全，但完成后将全面停工。

不过，目前尚无迹象显示美光已取消投资或决定将桃园产能转往海外，后续美光劳资协商能否取得共识或成关键。