牛津仪器研讨会拟讨论纳米级等离子工艺

等离子刻蚀和沉积系统制造商牛津仪器公司(Oxford Instruments)日前宣布，在北京和台湾举办两场为期一天的研讨会，将聚焦于纳米级等离子工艺。

 

这两场研讨会之前，牛津仪器曾在中国举办一系列研讨会，吸引了逾两百名参与者。

 

这两场研讨会预计将分别于今年五月十四日在中国北京举行，五月十六日在台湾新竹工业技术研究院(ITRI)举行。

 

除了牛津仪器公司等离子技术的处理和应用专家，该研讨会还将包括中国大陆、台湾和欧洲的多名演讲嘉宾和专家的发言。

 

每个为期一天的计划都将涉及一系列主题，包括原子层沉积(ALD)、光伏(PV)、深硅刻蚀、发电设备、高亮度发光二极管(HBLED)和离子束技术。

 

中国科学院北京半导体研究所杨福华表示：“两年前我们曾与牛津仪器举办过此类研讨会，获得巨大成功，逾一百人参加。不同领域的发言人的演讲内容极佳，并且信息量相当大。这两场研讨会是在非正式场合下发现新技术的绝佳方式，并且有大量时间与专家交流。”

 

开幕式发言人牛津仪器等离子技术亚洲区业务经理Jeffrey Seah表示：“我们期待在中国大陆和台湾的这两场研讨会有大量观众参与，并且非常荣幸如此多著名的发言人已接受我们的邀请，讲述他们在等离子工艺领域的工作。我们的研讨会为等离子工艺领域提供一个重要的机遇，走到一起分享他们的经验，并且更多了解各自领域领先的国际专家。”

 

根据此前在北京和上海研讨会的成功，牛津仪器预计学术界和生产部门将热情参与。

 

此次研讨会免费参加，但需在线预订。