刘勇:背面工艺优化是工艺努力方向

   2012-12-14 SEMI14040
导读

晶澳太阳能CTO刘勇:背面工艺优化是工艺努力方向PV技术趋势首先是高效电池片和组件观念的发展,寻求降低系统成本的最佳方法,增加单位



晶澳太阳能CTO刘勇:背面工艺优化是工艺努力方向

PV技术趋势首先是高效电池片和组件观念的发展,寻求降低系统成本的最佳方法,增加单位面积的发电量;其次是降低材料成本,将硅的消耗量减少变成较薄的硅片,降低银的成本;此外,背点接触式的组件是可行的,减少电池到组件的功率损失(CTM)、得到较高的组件效率,可与超薄型硅片相容,减少电池的生产成本。

2012年大规模生产的单晶电池片效率可达到18.8%,而先进的生产线生产的单晶电池片效率达到19%-19.2%。当N型电池片开始赢得市场份额时,P型电池片仍占据优势。以技术的角度来看,电池正面的优化持续进行,但几乎到达极限,背面工艺的优化是现在工艺努力的方向。现今市场,功率决定了可销售电池片的门槛,比率决定了有效产能和整体的电池成本影响。
 
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