目前自有的生产设备主要有真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，区域熔炼熔炉，多温区加热炉，单晶炉，真空热压炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、氮化炉、冷压成型机，真空锻轧设备，车床，磨床，铣床，钻床，冲床，线切割等各种材料成型及机械加工设备。
主要产品有各种溅射靶材，陶瓷靶材,合金靶材,稀土靶材,蒸发镀膜料，半导体化合物，高纯金属，蒸馏稀土金属，还原稀土金属，稀土合金，中间合金，高纯化合物等。
陶瓷靶材
硼化物靶材
硼化二铬陶瓷靶材 (Cr2B)，硼化铬陶瓷靶材 (CrB)，二硼化铬陶瓷靶材 (CrB2)，三硼化五铬陶瓷靶材 (Cr5B3), 硼化铁陶瓷靶材 (FeB)，二硼化铪陶瓷靶材 (HfB2)，六硼化镧陶瓷靶材 (LaB6)，硼化二钼 (Mo2B)，五硼化二钼 (Mo2B5)，硼化铌 (NbB)，二硼化铌 (NbB2)，硼化钽 (TaB),Tantalum Boride (TaB2)，二硼化钛(TiB2)，硼化二钨 (W2B)，硼化钨 (WB)，硼化钒陶瓷靶材 (VB)，二硼化钒陶瓷靶材 (VB2)，二硼化锆陶瓷靶材 (ZrB2)
碳化物靶材
碳化四硼陶瓷靶材(B4C)，二碳化三铬陶瓷靶材 (Cr3C2)，碳化铪陶瓷靶材(HfC)，碳化二钼陶瓷靶材 (Mo2C)，碳化铌陶瓷靶材 (NbC)，碳化硅陶瓷靶材 (SiC)，碳化钽陶瓷靶材 (TaC)，碳化钛陶瓷靶材(TiC)，碳化钨陶瓷靶材 (WC)，碳化二钨陶瓷靶材 (W2C)，碳化钒陶瓷靶材 (VC)，碳化锆陶瓷靶材 (ZrC)
氟化物靶材
氟化铝陶瓷靶材(AlF3)，氟化钡陶瓷靶材 (BaF3)，氟化镉陶瓷靶材 (CdF2)，氟化钙陶瓷靶材 (CaF2)，氟化铈陶瓷靶材 (CeF3)，氟化镝陶瓷靶材 (DyF3)，氟化铒陶瓷靶材(ErF3)，氟化铪陶瓷靶材 (HfF4)，氟化钾陶瓷靶材 (KF)，氟化镧陶瓷靶 (LaF3)，氟化铅陶瓷靶(PbF2)，氟化锂陶瓷靶材(LiF)，氟化镨陶瓷靶材 (PrF3)，氟化镁陶瓷靶材(MgF2)，氟化钕陶瓷靶材 (NdF3)，氟化钐陶瓷靶材 (SmF3)，氟化钠陶瓷靶材（NaF)，铝氟酸钠(冰晶石)靶材(Na3AlF6)，氟化锶陶瓷靶材(SrF2)，氟化钍陶瓷靶材 (ThF4)，氟化钇陶瓷靶材 (YF3)，氟化镱(YbF3)
氮化物靶材
氮化铝陶瓷靶材 (AlN)，氮化硼陶瓷靶材 (BN)，氮化镓陶瓷靶材(GaN), 氮化铪陶瓷靶材(HfN)，氮化铌陶瓷靶材 (NbN)，氮化硅陶瓷靶材 (Si3N4)，氮化钽陶瓷靶材 (TaN)，氮化钛陶瓷靶材 (TiN)，氮化钒陶瓷靶材 (VN)，氮化锆陶瓷靶材 (ZrN)
氧化物靶材
氧化铝陶瓷靶材 (Al2O3),氧化锑陶瓷靶材(Sb2O3),氧化锑掺锡陶瓷靶材(ATO)，钛酸钡陶瓷靶材(BaTiO3)，氧化铋陶瓷靶材(Bi2O3)，氧化铈陶瓷靶材(CeO2),氧化铜陶瓷靶材(CuO),氧化铬陶瓷靶材(Cr2O3),氧化镝陶瓷靶材(Dy2O3),氧化铒陶瓷靶材(Er2O3),氧化铒陶瓷靶材(Eu2O3),氧化钆陶瓷靶材(Gd2O3),氧化镓陶瓷靶材(Ga2O3),氧化锗陶瓷靶材GeO2),二氧化铪陶瓷靶材(HfO2),氧化钬陶瓷靶材(Ho2O3),氧化铟陶瓷靶材(In2O3),氧化铟锡陶瓷靶材(ITO),三氧化二铁陶瓷靶材(Fe2O3),四氧化三铁陶瓷靶材(Fe3O4),氧化镧陶瓷靶材(La2O3),钛酸铅陶瓷靶材(PbTiO3),锆酸铅陶瓷靶材(PbZrO3),铌酸锂靶材(LiNbO3), 铁酸镥陶瓷靶材(Lu3Fe5O12),氧化镥陶瓷靶材(Lu2O3),氧化镁陶瓷靶材(MgO),氧化钼陶瓷靶材(MoO3),氧化钕陶瓷靶材(Nd2O3),氧化镨陶瓷靶材(Pr6O11),钛酸镨陶瓷靶材(Pr(TiO2)2),氧化镨陶瓷靶材(Pr2O3),氧化钐陶瓷靶材(Sm2O3),氧化钪陶瓷靶材(Sc2O3),二氧化硅靶材(SiO2),一氧化硅陶瓷靶材(SiO),钛酸锶陶瓷靶材(SrTiO3),锆酸锶陶瓷靶材(SrZrO3),五氧化二钽陶瓷靶材(Ta2O5),氧化铽陶瓷靶材(Tb4O7),氧化碲陶瓷靶材(TeO2),氧化钍陶瓷靶材(ThO2), 氧化铥陶瓷靶材(Tm2O3),二氧化钛陶瓷靶材(TiO2),一氧化钛陶瓷靶材(TiO),五氧化三钛陶瓷靶材(Ti3O5),三氧化二钛陶瓷靶材(Ti2O3),二氧化锡陶瓷靶材(SnO2),一氧化锡陶瓷靶材(SnO),三氧化钨陶瓷靶材(WO3),五氧化二钒陶瓷靶(V2O5),钇铝石榴石(YAG)Y3Al5O12,三氧化二镱陶瓷靶材 (Yb2O3),氧化钇陶瓷靶材(Y2O3),氧化锌陶瓷靶材(ZnO),掺铝氧化锌陶瓷靶材(ZnO:Al),氧化锆陶瓷靶材(ZrO2)(未掺杂),氧化钙稳定氧化锆陶瓷靶材 (ZrO2-5-15wt%CaO)，氧化钇稳定氧化锆陶瓷靶材（ZrO2：Y2O3)
硒化物靶材
硒化铋陶瓷靶材 (Bi2Se3), 硒化镉溅射靶材 (CdSe),硒化铟溅射靶材 (In2Se3),硒化铅溅射靶材 (PbSe),硒化钼溅射靶材 (MoSe2),硒化铌溅射靶材 (NbSe2),硒化钽溅射靶材 (TaSe2),硒化钨溅射靶材 (WSe2),硒化锌溅射靶材 (ZnSe)
硅化物靶材
硅化三铬陶瓷溅射靶材(Cr3Si),二硅化铬陶瓷溅射靶材(CrSi2),二硅化钴陶瓷靶材(CoSi2), 二硅化铪陶瓷靶材(HfSi2),二硅化钼陶瓷靶材(MoSi2),二硅化铌陶瓷靶材(NbSi2),二硅化钽陶瓷靶材(TaSi2),三硅化五钽陶瓷靶材(Ta5Si3),二硅化钛陶瓷靶材(TiSi2),三硅化五钛陶瓷靶材(Ti5Si3),二硅化钨陶瓷靶材(WSi2),硅化三钒陶瓷靶材(V3Si),二硅化钒陶瓷靶材(VSi2),二硅化锆陶瓷靶材 (ZrSi2)
硫化物靶材
硫化锑陶瓷靶材(Sb2S3) ,硫化砷陶瓷靶材(As2S3),硫化镉陶瓷靶材(CdS),硫化铁陶瓷靶材(FeS),硫化铅陶瓷靶材(PbS),硫化钼陶瓷靶材(MoS2),硫化铌陶瓷靶材(NbS1.75),硫化钽陶瓷靶材 (TaS2),硫化钨陶瓷靶材(WS2),硫化锌陶瓷靶材 (ZnS),
碲化物靶材
碲化镉陶瓷靶材 (CdTe),碲化铅陶瓷靶材 (PbTe),碲化钼陶瓷靶材 (MoTe2),碲化铌陶瓷靶材 (NbTe2),碲化钽陶瓷靶材 (TaTe2),碲化钨陶瓷靶材 (WTe2),碲化锌陶瓷靶材 (ZnTe)，碲化铟陶瓷靶材(InTe)
其他陶瓷靶材
掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)，磷化镓靶材(GaP)，锑化镓靶材(GaSb)，锑化铟靶材（InSb）
纯度： 99%, 99.9%,99.95% 99.99%,99.995% 99.999% and 99.9999%.
形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他客户订制
单片尺寸：直径 (18英寸)，长度 (410mm)，宽度 (270mm)，厚度 (25mm)
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