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万跃鹏:高效多晶技术的进步成果正在快速显现

   日期:2017-11-21     来源:PV-Tech    浏览:5709    评论:0    
核心提示:11月16日,2017第十三届中国太阳级硅及光伏发电研讨会在徐州开幕。保利协鑫首席技术官万跃鹏在参加大会主题论坛时指出,在近一年
11月16日,2017第十三届中国太阳级硅及光伏发电研讨会在徐州开幕。保利协鑫首席技术官万跃鹏在参加大会主题论坛时指出,在近一年的时间里,与高效多晶相关的一系列技术研发接连取得重要突破,正处于技术提升和产业化应用的快速推广期。未来一段时期,高效多晶技术将在成本、效率等方面取得快速进步。

万跃鹏报告指出,高效化是光伏技术研发的重心。近一年以来,多晶路线的技术研发主要围绕着表面制绒技术展开,包括添加剂制绒、湿法黑硅和干法黑硅的三种技术路线都取得了重要进展。但从目前来看,湿法黑硅是最具性价比、最有市场前景的。保利协鑫曾在去年11月发布了湿法黑硅技术,该类型硅片拥有完美的电池外观、优质的陷光性能、更高的转化效率,以及更加低廉的价格。这个月,保利协鑫在无锡又发布了最新研发的TS+黑硅技术,相比目前市场上主流的多晶组件,60片型TS+黑硅组件可获得效率增益达5瓦以上,组件功率轻松突破275瓦;同时,组件成本可降低6.5分/瓦。

“黑硅技术的突破,以及国产化金刚线机台改造、低成本的金刚线细线是金刚线多晶硅片得以在今年快速推广的三个最主要的因素”,万跃鹏指出,“任何技术都有其快速提升期,得益于这三个主要技术领域的协同推进,未来,多晶技术在降本、增效方面的进步将快速显现”。他表示,黑硅技术在提升电池效率方面仍有进步空间,同时,金刚线细线化、国产化机台改造的快速推进将使金刚线多晶硅片更具竞争力。

“可以说,前几年高效多晶技术的主攻方向是围绕着晶体结构进行的体材料提效,而近一年则是以黑硅技术为代表的硅片表面提效,下一阶段将是围绕着多晶PERC的电池效率提升,终极目标是铸锭单晶技术提效”,万跃鹏表示,未来,多晶技术进一步的提升将集中在减少晶体缺陷、优化铸锭单晶技术、提升黑硅效率、减少铸锭硬质点、优化金刚线切多晶、薄片化和大尺寸的硅片等方面,多晶技术仍有很大的提升空间。

中国太阳级硅及光伏发电研讨会由中国可再生能源学会、上海市太阳能学会共同主办。本届会议共设置了近20个分论坛和边会,参会人数超过800人,总报告数量超过330篇,规模创下历届新高。历经十余年发展,中国太阳级硅及光伏发电研讨会已成为国内光伏企业关注最新技术成果和研发方向的重要窗口,是我国光伏全产业链最有价值、最具权威的学术会议之一。 
 
标签: 多晶技术
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